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Otsuka大塚電子的晶圓膜厚儀采用分光干涉法進(jìn)行非接觸、無(wú)損測(cè)量，適用于硅晶圓、玻璃基板等材料的厚度檢測(cè)，具備高精度、實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)等特點(diǎn)。 ?

核心參數(shù)

• ?測(cè)量范圍?：硅晶圓厚度可測(cè)6-1300μm（不同型號(hào)覆蓋6-400μm至50-1300μm），樹(shù)脂薄膜10-2600μm；
• ?精度?：重復(fù)精度達(dá)0.01%；
• ?采樣頻率?：*高5 kHz（200μs采樣周期）；
• ?光源?：半導(dǎo)體激光光源；
• ?工作距離?：支持50-200mm調(diào)節(jié)，適合集成到產(chǎn)線設(shè)備中。 ?

功能特點(diǎn)

1. ?實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)?：適用于研磨拋光過(guò)程厚度監(jiān)控，支持多層結(jié)構(gòu)測(cè)量；
2. ?強(qiáng)酸環(huán)境適用?：可測(cè)量玻璃基板在強(qiáng)酸減薄工藝中的厚度變化；
3. ?高速檢測(cè)?：*快5 kHz采樣頻率，滿足半導(dǎo)體制造的實(shí)時(shí)性要求；
4. ?微區(qū)測(cè)量?：*小光斑直徑20μm，適配微納結(jié)構(gòu)檢測(cè)。 ?

型號(hào)選擇

• ?SF系列?（如SF-3/200）：適用于硅晶圓及化合物晶片，測(cè)量范圍6-400μm；
• ?OPTM系列?：支持深紫外至近紅外波段，光斑可細(xì)至3μm，適合半導(dǎo)體芯片微區(qū)測(cè)量；
• ?GS系列?（如GS-300）：專用于晶圓厚度解析。 ?